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Samsung verschiebt 1,4 Nanometer auf 2029 und verzichtet bis 2030 auf High-NA

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Bilanz der Quelle: Samsung Foundry hat auf der Next-Generation-Lithography-Konferenz 2026 ihren Fertigungsplan revidiert und den Knoten SF1.4 von 2027 auf 2029 verschoben. Das Unternehmen will die SF2-Familie mit SF2P, SF2X, SF2A und der Variante SF2Z mit Rueckseitenstromversorgung verbessern, während High-NA-EUV erst 2030 zur Einsatz kommen wird.
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Die Inhalte dieses Artikels wurden automatisiert mittels Künstlicher Intelligenz generiert. Die zugrundeliegenden Daten stammen von electronicsforyou.biz. Es erfolgte keine manuelle redaktionelle Bearbeitung.

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